掩模对准器的功能包括用于芯片生产的掩模对准器、用于封装的掩模对准器和用于LED制造的投影掩模对准器。用于生产芯片的光刻机是中国半导体设备制造的最大短板。国内晶圆厂所需的高端光刻机全靠进口，厦门企业此次从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。
【/s2/】工作原理【/s2/】
在加工芯片的过程中，掩模对准器通过一系列光源能量和形状控制手段使光束透过带有电路图的掩模，通过物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小并映射到硅片上，然后通过化学方法显影，获得刻在硅片上的电路图。
一般的光刻工艺必须经过清洗和干燥硅片表面、涂覆底部、旋涂光刻胶、软烘烤、对准曝光、后烘烤、显影、硬烘烤和激光蚀刻的过程。已经光刻一次的芯片可以继续胶合和曝光。芯片越复杂，电路图的层数就越多，需要的曝光控制过程也就越精确。
