三氟化氮有毒，属于低毒物质。
三氟化氮在室温下是一种无色、无味、稳定的气体，是一种强氧化剂。作为微电子工业中优良的等离子体刻蚀气体，三氟化氮在离子刻蚀过程中分解为活性氟离子。这些氟离子对硅和钨化合物以及高纯度三氟化氮（氧化硅和硅）具有优异的蚀刻速率和选择性。在蚀刻过程中，它不会在被蚀刻物体的表面留下任何残留物，是一种非常好的清洗剂。同时，它已广泛应用于芯片制造和高能激光器。
三氟化氮的使用:【/s2/】
三氟化氮主要用作氟化氢-氟化物气体高能化学激光器的氟源。三氟化氮是微电子工业中优良的等离子体刻蚀气体。对于硅和氮化硅蚀刻，三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧的混合气体具有更高的蚀刻速率和选择性，并且它对表面没有污染。特别是在蚀刻厚度小于1.5微米的集成电路材料时，三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性，不会在被蚀刻物体表面留下残留物，也是非常好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业的大规模发展，其需求将日益增加。
